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作者：高铭;王文焱;岳慎伟;谢敬佩;崔云峰;刁晓刚;
单位：河南科技大学材料科学与工程学院;有色金属共性技术河南省协同创新中心;洛阳科威钨钼有限公司;河南省钼及钼合金工程技术研究中心;中信重工洛阳重铸铁业有限责任公司;
摘要：首先采用烧结工艺制备了不同保温时间的Ni-W合金靶材,并以氧化铟锡(ITO)为基体,通过磁控溅射法制备了Ni-W合金薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、电子背散射衍射(EBSD)、透射电镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)等对靶材及其溅射薄膜的微观组织进行表征,使用四探针测试仪和台阶仪对薄膜的方阻值和厚度进行了测试,研究了保温时间对Ni-W合金靶材性能及其溅射薄膜性能的影响。结果表明:保温3 h时的靶材的性能达到最佳,此时靶材的相对致密度为96.25%,晶粒大小为8μm,织构强度增加到4.92;不同保温时间的Ni-W合金靶材中只存在Ni_(17)W_3和W两种物相;采用保温3 h的靶材制备的溅射薄膜性能较好,此时的薄膜厚度达到最大,为330μm,薄膜的方阻最小,为31.4Ω/,薄膜表面最为光滑,均方根粗糙度为10.12 nm。
关键词：Ni-W合金靶材;磁控溅射沉积;显微组织
基金资助：洛阳市重大科技创新专项(2201018A); 郑洛新国家自主创新示范区创新引领型产业集群专项(201200211000)
