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作者：程岩;姜琛;张茂彩;艾静雯;那世航;王誉;辛博;崔红兵;
单位：包头稀土研究院磁性材料研究所白云鄂博稀土资源研究与综合利用全国重点实验室;
摘要：采用磁控共溅射技术在不同基底上制备高通量的稀土Dy基非晶合金薄膜。利用XRD,SEM,EDS,TEM，四探针仪等对Dy-Cu-Al非晶合金薄膜的微观形貌、物相结构、电学性质等进行表征。结果表明：磁控共溅射制备的高通量Dy-Cu-Al非晶合金薄膜致密、均匀、无孔洞，与基底结合良好，生长性能好，厚度可控，成分均匀，无偏析。以薄膜半峰全宽Δq和电阻率ρ作为玻璃形成能力（GFA）评价参数，快速确定了Dy-Cu-Al非晶合金薄膜的高GFA合金成分范围。再由薄膜硬度（H）进一步确定该非晶合金体系中硬度更高、更接近于Dy-Cu合金共晶点的最高GFA合金组成为Dy_(53.5)Cu_(30.8)Al_(15.7)。Dy-Cu-Al非晶合金薄膜的制备不仅填充了稀土基非晶薄膜制备与研究的空白，且对新提出的评价标准做了进一步的实验验证，对高性能非晶薄膜的研究与应用具有借鉴意义。
关键词：磁控共溅射;;Dy基非晶合金;;玻璃形成能力;;半峰宽;;电阻率;;硬度
基金资助：国家重点研发计划青年科学家项目（2022YFB3505800）;; 中央引导地方科技发展资金项目（2021ZY0034）;; 北方稀土项目（2021H2298）;; 包头市科技计划项目（XM2021CXZX04）资助
