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作者：韩文;杨振恒;隋旭东;徐磊;曾时金;于盛睿;徐晗;
单位：景德镇陶瓷大学;科达制造股份有限公司;
摘要：针对瓷砖抛光生产中出现的过抛、漏抛等严重影响产品质量的问题，基于Preston方程和磨头外轮廓轨迹方程，建立了抛光工艺参数和运动参数与过抛、漏抛相关变量间的数学模型。仿真分析结果表明：过抛区域主要集中在抛光轨迹重叠区域，少部分分布在轨迹的上下弧形区域；当改变抛光工艺参数时，随着无漏抛区域宽度变大，重叠区域的面积也随之变大。通过调整抛光工艺参数不仅可在无漏抛区域宽度减少17.91%，还能使得重叠面积减少53.06%，极大改善了过抛情况，有效地提升了磨削均匀性，为后续实际生产中抛光轨迹的优化提供理论基础。
关键词：均匀性;;抛光工艺参数;;磨削;;Preston方程;;仿真分析
基金资助：景德镇市陶瓷产业重大产学研协同攻关和成果转化项目(2023ZDGC003);; 校企合作项目(KD-XMLX-20231244)
