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光学技术2025年第04期:UED电子枪磁场屏蔽板设计仿真

来源:期刊VIP网 时间:


作者:李梦超;张璐;费林博;陈维;黄骏;倪维元;王兴权;

单位:赣南师范大学物理与电子信息学院;聊城二中附属东苑中学;

摘要:采用Poisson Superfish联合General Particle Tracer仿真UED直流光阴极电子枪安装不同磁场屏蔽板后的效果。发现磁屏蔽板中心开孔越小,磁场屏蔽效果越好,被屏蔽后的磁场大小与开孔半径成正比。然而当孔太小时,继续减小孔径对屏蔽效果提升不明显。磁屏蔽板厚度越厚,屏蔽效果越好,被屏蔽后的磁场大小与厚度成反比,但厚度变化对屏蔽的提升有限。磁屏蔽板距离电子枪越近,电子枪磁场越大,被屏蔽后的磁场大小与距离成反比,这主要是中心开孔的漏磁导致。磁屏蔽板的存在会导致电子脉冲聚焦提前,聚焦半径变小。电子脉冲聚焦半径和焦距随磁屏蔽板中心孔半径变小而变小,同时随着磁屏蔽板厚度增大而变小。电子脉冲聚焦半径和焦距随磁屏蔽板距离电子枪的距离的增大而变小。总之,磁场屏蔽效果越好,电子枪和磁屏蔽之间的磁场越小,电子脉冲聚焦半径和焦距越小。

关键词:超快电子衍射(UED);;直流光阴极电子枪;;超快电子脉冲粒子仿真;;磁场有限元仿真;;磁场屏蔽

基金资助:江西省教育厅科技项目(GJJ201437);; 国家自然科学基金资助项目(22061002,52067002);; 江西省主要学科学术和技术带头人-领军人才项目(20225BCJ22003)