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作者：杨帆;张思媛;董武佩;王希正;周铭;居佃兴;
单位：青岛科技大学材料科学与工程学院;
摘要：有机金属卤化物在X射线成像领域展现出巨大的应用潜力。然而，多晶薄膜闪烁体屏幕的均匀性差、透射率低和光散射等问题严重降低了X射线成像分辨率。本文使用空间限域法生长制备了英寸级（C_(24)H_(20)P）_2MnBr_4单晶薄膜，并对其进行了物相、光学和闪烁性能的研究。该晶体表现出90%的光致发光量子产率（PLQY）及优异的光稳定性，在365 nm紫外光下连续照射24 h，其光谱仍保持稳定。基于该晶体优异的光学性质，在X射线下产生83 000 photons/MeV（估算值）的高光产额，是商用LYSO闪烁体的2.5倍。此外，该晶体展现出优异的耐辐射稳定性，即使在504 mGy·s~(-1)的高剂量率下暴露60 min后仍保持其性能的稳定性。基于上述优势，将（C_(24)H_(20)P）_2MnBr_4单晶薄膜应用于X射线成像，实现了约23 lp/mm的空间分辨率，在该领域展现出巨大的应用潜力。
关键词：(C_(24)H_(20)P)_2MnBr_4;;有机金属卤化物;;空间限域;;单晶薄膜;;闪烁性能;;X射线成像
基金资助：国家自然科学基金青年项目(62104124)
