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作者：李伊伦;魏镜弢;吕彤辉;吴张永;
单位：昆明理工大学机电工程学院;
摘要：针对铝合金磁流变抛光过程中出现的磨粒分布不均，提出基于二氧化硅包覆四氧化三铁（Fe_3O_4@SiO_2）壳核结构磁性复合磨粒的化学辅助磁流变抛光工艺。用溶胶-凝胶法制备Fe_3O_4@SiO_2磁性复合磨粒，通过X射线衍射（XRD）、傅里叶变换红外光谱（FT-IR）、扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、X射线电子能谱仪（EDS）及振动样品磁强计（VSM）对其进行表征。进行6061铝合金平面材料的单因素抛光试验，研究主轴转速、抛光间隙、进给速度及抛光时间等对表面质量的影响。结果表明：主轴转速为600 r/min、抛光间隙为3 mm、进给速度为80 mm/min、抛光时间为40 min是最优参数组，在此参数下抛光6061铝合金，获得了Ra=0.02μm的超光整表面。对比同参数下传统磁流变抛光后的铝合金表面，因磨粒分布不均导致的表面细小划痕得到改善。
关键词：铝合金;;磁性复合磨粒;;化学辅助磁流变抛光;;抛光工艺参数;;表面质量
基金资助：国家自然科学基金（51165012）
