我们的服务符合学术规范和道德
专业 高端让您使用时没有后顾之忧

昆明理工大学学报(自然科学版)2025年第03期:掺镓单晶硅中环状分布的V型缺陷的研究

来源:期刊VIP网 时间:


作者:付学伟;万小涵;马文会;李绍元;杨时聪;武绚丽;

单位:昆明理工大学冶金与能源工程学院;云南大学工学院;昆明理工大学继续教育学院;

摘要:单晶硅原生缺陷对太阳能电池的性能有着至关重要的影响.目前对掺镓单晶硅的缺陷研究比较少,文中针对商用掺镓单晶硅的原生缺陷进行研究,并探索其对少子寿命的影响.光致发光光谱显示,在晶圆中分布着宽度为4~5 cm的黑环区域,金相显微镜图片观察到一种罕见的V形缺陷仅在环区中1~2 cm的范围内分布,该区域观察到大量团簇的晶体原生氧沉淀.表征结果显示,V型缺陷符合氧化堆垛层错的特征,这些V形缺陷与原生氧沉淀共同组成缺陷复合区.复合区域对少子寿命减少的负面影响要大于其他黑环区域,由此加重少子寿命的非均匀径向分布,最终将对太阳能电池的电性能产生不利影响.

关键词:直拉单晶硅;;V形缺陷;;氧沉淀;;少子寿命

基金资助:云南省重点研发计划项目(202103AA080006,202202AG050012);; 云南省基础研究计划面上项目(202101AT070092);; 云南省“智汇云南”计划项目(202303AM140008);; 昆明理工大学“双一流”创建联合专项(202101BE070001-010)