来源：期刊VIP网 时间：
作者：赵慧斌;李艳丽;张贺;牛耕;韩立;
单位：中国科学院电工研究所;
摘要：X射线多层膜可实现特定波长X射线的高效反射，是获得单色X射线的一种重要元件。由于X射线的波长短，多层膜的周期厚度通常为纳米量级，高精度膜厚控制的原子层沉积(ALD)法是制备X射线多层膜的一种有效方法。对于常用的0.154 nm X射线，HfO_2/Al_2O_3是一种有效的多层膜材料组合，为进一步研究ALD法制备的HfO_2/Al_2O_(3 )X射线多层膜的特性，探索多层膜的应用，利用ALD法制备了周期厚度3.8 nm、周期数60的Hf O_2/Al_2O_3多层膜，表征结果显示：多层膜为非晶薄膜，表面粗糙度为0.77 nm，膜层间的界面清晰，周期厚度的最大偏差为0.11 nm，多层膜的X射线(0.154 nm)最高反射率约为45%。将HfO_2/Al_2O_3多层膜应用于X射线衍射仪中，测试同一硅粉样品，测试结果显示：安装多层膜后，衍射谱的背底强度降低，且未见杂峰，展现出HfO_2/Al_2O_3多层膜的应用潜力。
关键词：X射线;氧化铪/氧化铝多层膜;原子层沉积;衍射仪
基金资助：国家重点研发计划(2023YFF0723802); 国家自然科学基金(12104454); 中国科学院电工研究所基金(E1554404)
