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作者：于广琛;王俊莉;王晓冬;
单位：东北大学机械工程及自动化学院;
摘要：裂解源是分子束外延设备（MBE）及表面处理设备中的关键及核心，目前其以广泛应用于化合物半导体芯片制造行业。随着对半导体性能的要求逐步提高，半导体制造设备也需要不断发展。对于具有催化作用的热裂解源，由于其内部复杂流态的分布以及存在壁面催化化学反应，应用直接模拟蒙特卡洛方法（DSMC）进行模拟及结构优化。文章以砷/磷（固体），氢（气体）热裂解源为例，介绍了裂解源的基本构造和原理，以及其模拟方法。
关键词：裂解源;;分子束外延;;应用及模拟;;直接模拟蒙特卡洛法
基金资助：国家重点研发计划项目（2022YFF0707601）
