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作者：李琳;刘丽月;陈燕;
单位：上海交通大学化学化工学院;
摘要：利用扫描电子显微镜对不导电样品的成像过程中，荷电效应会导致图像产生畸变、漂移、亮点亮线等缺陷。二次电子成像形貌立体感较好但是容易产生荷电现象，背散射电子成像受荷电影响较小但是一般形貌衬度较差。文章借助Apreo2S场发射扫描电镜，针对不导电样品在不镀膜的情况下，通过优化工作模式、探测器和工作距离等参数来调控电子信号，巧用低角电子，得到形貌衬度明显的高分辨图像。从二次电子角度出发，使用Optipan模式配合T2探测器通过缩短工作距离以收集低角二次电子从而减弱荷电效应。从背散射电子角度出发，放大倍数较低时可使用Optipan模式配合ETD探测器获得形貌立体感好的高分辨图像，放大倍数高时可使用Immersion模式配合T1探测器缩短工作距离下以得到最佳图像。
关键词：扫描电子显微镜;荷电效应;形貌衬度;低角电子
