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作者：印莲华;刘忠伟;
单位：上海出版印刷高等专科学校;北京印刷学院等离子体物理与材料研究室;
摘要：文章通过在聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）基底表面沉积一定厚度的高阻隔薄膜，改善PET材料阻隔性能。采用微波等离子体化学气相沉积（PECVD）技术在PET基底上沉积氧化硅（SiOx）和类金刚石（DLC）阻隔薄膜，研究不同单体比例制备的薄膜结构、微观形貌和阻隔性能有何异同。结果表明单体比例的不同，显著影响SiOx和DLC薄膜的结构、微观形貌和阻隔性能。一定工艺条件下，SiO_x和DLC薄膜均能充分发挥各自的阻隔作用，降低PET材料的氧气（O_2）透过率。采用乙炔（C_2H_2）和氩气（Ar）混合气体制备DLC薄膜，少量Ar有利于反应单体离解，同时对薄膜表面刻蚀作用较弱，薄膜沉积速度快，表面颗粒致密，可有效阻挡气体渗透，制得的DLC/PET复合膜的氧气透过率可低至0.58 mL·m~(-2)·d，远低于未表面涂布改性PET薄膜的130 mL·m~(-2)·d。以六甲基二硅氧烷（HMDSO）和氧气（O_2）为反应单体制备SiOx薄膜，O_2比例较高时，薄膜中的硅（Si）、氧（O）元素的键合趋于网状结构和笼状结构，增加了气体的扩散难度，所制备的SiO_x/PET复合膜氧气透过率可低至3.69 mL·m~(-2)·d。研究提出的利用微波PECVD技术在PET基底上沉积阻隔性SiO_x或DLC阻隔薄膜，可为高阻隔PET复合薄膜的生产工艺提供有益的参考。
关键词：微波等离子体增强化学气相沉积;阻隔性能;氧化硅;类金刚石;聚对苯二甲酸乙二醇酯
基金资助：上海市教育发展基金会和上海市教育委员会“晨光计划”项目（19CGB11)
