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作者：李岳隆;谢周宇;张大伟;陶春先;徐学科;文静;
单位：上海理工大学光电信息与计算机工程学院;恒迈光学机密机械(杭州)有限公司;
摘要：文章基于双光子聚合(TPP)效应，即双光子光刻(TPL)3D打印技术，实现了超衍射极限和高复杂结构的加工，实现了加工大深宽比的纳米柱子及由这些纳米柱子构成的超构表面。本文研究了不同TPP工艺参数对IP-Dip光刻胶微结构尺寸的影响，同时对这些参数进行了优化。文章的创新在以下两点：(1)分析了不同激光参数下纳米柱的尺寸变化，同时找出线宽最小对应的阈值参数来制备大深宽比的纳米结构。(2)对于加工步骤的优化，在显影步骤后加入了紫外灯固化和超临界二氧化碳干燥等步骤，以保证加工出的纳米结构不倒塌且具有良好的稳定性。文章使用以上改良技术，稳定的制备出具有最大深宽比接近15∶1、最小线宽214.80nm的矩形纳米柱，以及最大深宽比接近20∶1、最小直径145.44nm的圆形纳米柱，并且将制备出的大高宽比纳米柱应用在超构表面的加工中。
关键词：双光子3D打印;;双光子聚合效应;;纳米柱;;大深宽比;;超构表面
基金资助：国家重点研发计划(2018YFA0701800);; 国家自然科学基金(NSFC,62175153);; 上海理工大学专业学位研究生实践基地项目
