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作者：陈峰武;吕文利;龚欣;薛勇;巩小亮;
单位：中国电子科技集团公司第四十八研究所;
摘要：分子束外延(MBE)设备具有超高真空、超高精度、超高均匀性薄膜沉积等特点，是化合物半导体材料、器件制造的核心工艺装备，被广泛用于固态微波射频器件、半导体激光器、探测器等外延薄膜制备。本文在简要介绍MBE设备及技术特点的基础上，首先详细阐述了Riber、Veeco、DCA等国际知名厂商的MBE设备发展历程及产品现状；接着对中国电科48所(CETC48)、沈阳科仪(SKY)、费勉仪器(FERMI)等国内代表性厂商的MBE设备国产化进展情况进行介绍；最后对MBE技术的未来发展趋势进行了展望，并指出当前MBE设备国产替代恰逢其时，需要抓住机遇，克服挑战，快速推进我国MBE设备的技术迭代和产业化应用，为我国科技自立自强提供重要支撑。
关键词：分子束外延设备;;化合物半导体;;国产化;;超高真空
基金资助：国家重点研发计划(2022YFB3404400)
