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作者：李冬梅;周俊;吴非凡;吕家波;肖黎;龚恒翔;
单位：重庆理工大学理学院;龙泰洋健(重庆)医疗科技有限公司;
摘要：基于自主搭建的超声雾化热解喷涂装置进行静电场作用耦合,通过在反应沉积腔体的上、下壁面间施加非匀强电场,探究了形成静电场所施加的直流电压对喷涂TiO_2薄膜结构与性能的影响。电场作用下雾滴颗粒被极化并获得垂直衬底表面的动量,克服了热泳力作用的影响,提高了钛源前驱体在衬底表面的附着效率,同时增强了薄膜结晶性能及成膜均匀性。结果表明,当加载电压为1.0kV时,获得了优化锐钛矿相TiO_2薄膜,其(101)晶面半峰全宽为0.29°,平均晶粒尺寸达到94.19nm,可见光区平均透过率为85%,表面粗糙度为16.70nm。通过静电场的施加,调控了衬底近表面处入射粒子的动量,构建了更有利于TiO_2薄膜生长的稳定环境,为TiO_2薄膜制备工艺的优化提供了参考。
关键词：TiO_2薄膜;;超声雾化热解喷涂;;热泳力;;静电场;;晶体生长
