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作者：罗万里;谢一;张研;郑伟伟;申溯;
单位：苏州大学光电科学与工程学院;深圳劲嘉集团股份有限公司;苏州印象技术有限公司;苏州大学苏州纳米科技协同创新中心;
摘要：光场成像是一类新型的成像技术。作为光场成像技术的重要组成部分，莫尔成像薄膜以其优异的三维和动态成像特性，近年来引起人们的广泛关注。本文综述了莫尔成像薄膜的研究和应用进展，主要介绍了莫尔成像薄膜的成像原理，给出了莫尔成像薄膜中人们最为关注的放大倍率、取向角、立体景深和动感参数的基本原理和计算公式。进一步地，讨论了大幅面微透镜阵列模具的制备技术、分辨率大于8000dpi的纳米印刷技术和对准微纳压印技术。最后讨论了莫尔成像技术的未来发展机会和挑战，为莫尔成像薄膜未来在安全防伪、动态显示等方向的应用提供了借鉴。
关键词：莫尔现象;;微透镜阵列;;纳米印刷;;防伪
基金资助：国家自然科学基金面上项目——基于域变换的微光场重构特性研究(No.62175172)
