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作者：胡轶;李子建;刘磊;
单位：河北工程大学建筑与艺术学院;石家庄学院化工学院;
摘要：采用磁控溅射法在Si(100)衬底上制备NiMn_2O_4薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜对薄膜微观结构和表面粗糙度进行表征，采用椭圆偏振光谱法，在300～850 nm波段内研究NiMn_2O_4薄膜。考察20～220℃温度下薄膜的光学特性，采用Tauc-Lorentz色散函数研究NiMn_2O_4薄膜的折射率、消光系数以及材料光学特性随温度的变化规律，并通过复介电函数虚部同变温XPS进一步证明，温度引起NiMn_2O_4薄膜材料光学特性变化的原因是源于材料内部Mn~(3+)/Mn~(4+)浓度比的变化。
关键词：椭圆偏振光谱法;;NiMn_2O_4薄膜;;Tauc-Lorentz色散函数
基金资助：河北工程大学创新基金资助项目(SJ2101003202)
