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作者：郭晨瑜;王文豪;宋学锋;张振生;俞大鹏;
单位：深圳国际量子研究院;北京大学物理学院;合肥国家实验室;
摘要：电子束光刻（Electron Beam Lithography,EBL）作为能够实现亚微米乃至纳米尺度图形化制造的常用微纳加工技术，凭借其高的加工精度与灵活的图形加工能力，在微纳制造领域扮演着至关重要的角色。文章系统性地回顾了电子束光刻技术的基本物理原理及设备发展脉络。重点阐述了早期基于扫描电子显微镜的高斯束EBL设备，以及为突破写入效率和精度瓶颈而演进的商用变形束与前沿的多束EBL系统，并在此基础上结合最新研究进展探讨了EBL设备及其相关技术未来的发展趋势，以期为相关领域的学术研究与产业发展提供理论支撑与实践参考。
关键词：电子束光刻;;微纳制造;;电子光学系统
基金资助：科技创新2030重大项目(2021ZD0303000)
