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作者：蔡晓佳;黄家健;孙丹丹;梁嘉盈;唐秀凤;张炯;
单位：五邑大学应用物理与材料学院;东莞理工学院化学工程与能源技术学院;五邑大学土木建筑学院;
摘要：为研究基底温度对NiO_x薄膜综合电致变色性能的影响，在基底温度分别为室温、50、100、200和300℃下，采用直流反应磁控溅射法制备了NiO_x薄膜，并对薄膜的形貌、循环稳定性、光学调制率、记忆效应、响应时间和附着力等性能进行测试表征和对比分析。研究结果表明，基底温度对NiO_x薄膜的电致变色性能影响较为复杂，基底温度为100℃时制备的薄膜综合性能最优，具有电荷容量密度衰减率低、记忆效应好、响应速度快、调制率高和与基底附着力较好等特点。本研究对NiO_x基电致变色器件的设计和制备具有一定的参考意义。
关键词：电致变色;;NiO_x;;响应时间;;记忆效应;;循环稳定性;;附着力
基金资助：国家自然科学基金(12004285);; 五邑大学创新创业基金(2022CX47)
