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作者：潘柏华;
单位：中国人民大学法学院;
摘要：集成电路布图设计权的制度困境在于：权利行使以边界清晰为前提，而技术发展却导致保护对象日趋“不可见”。由于缺乏法定的公开程序，司法实践多将确权登记定性为备案，并将事后界权困难归结为权利人事先交存的证据不足。回归制度原理，布图设计权登记推定本领域一般技术人员能够从产品中获知实质内容，但事实上可能造成保护商业秘密的结果。登记制改革应当兼顾公开和保密背后的不同保护需求，引入独创性声明规则要避免对权利人课以强制、终局的披露义务。布图设计登记程序需设立自愿披露的分级公示渠道，并根据公开程度差异化认定登记文件的证明力。在将数据产品纳入知识产权登记体系时，布图设计权应当成为前车之鉴：解决数据确权中的黑箱问题，不能仅寄希望于行政登记的公信力，还应建立弹性的产权公开机制。
关键词：集成电路布图设计;;登记取得制;;公开;;独创性声明;;分级公示
