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作者：卿晓梅;丁友;马子超;
单位：南通理工学院;南昌工程学院;
摘要：在磁控溅射工艺中，磁场设计是决定溅射效率、薄膜质量及工艺经济性的核心因素。文中基于磁场-等离子体-薄膜性能的耦合机制，提出一种动态可调磁场与多区域协同优化策略，以解决传统静态磁场在复杂工艺中的调控瓶颈。针对靶材参数优化问题，采用粒子群优化（PSO）算法对磁轭结构、磁场强度等关键参数进行全局寻优。在全流程的多目标优化过程中，通过非支配排序遗传算法（NSGA-Ⅱ）来同步优化薄膜均匀性、靶材利用率、沉积速率及能耗效率，构建Pareto最优解集。实验测试结果表明，所提方法在代际距离（GD=4.58×10~(-5)）、间距指标（SP=7.55×10~(-3)）和超体积（HV=0.551）等综合评价指标上均优于对比算法，验证了该方法具有良好的收敛性、多目标协同优化能力及综合性能。
关键词：磁控溅射;;磁场分析;;粒子群优化算法;;非支配排序遗传算法;;多目标优化;;Pareto解集
基金资助：南通理工学院第一批科技创新与服务地方团队项目（KJCXTD113）;; 南通市科技计划项目（JC2020131）
