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真空科学与技术学报2024年第12期:溅射功率对MoS_2涂层结构及其电催化性能影响

来源:期刊VIP网 时间:


作者:姚明镜;张珂嘉;张虹;黄熠;唐国庆;但敏;金凡亚;

单位:核工业西南物理研究院;成都理工大学工程技术学院;

摘要:以二硫化钼(MoS_2)为代表的非贵金属产氢电催化剂因较高的催化性能在析氢催化方面引起广泛关注。文章采用磁控溅射法在泡沫镍(NF)基底上制备了MoS_2催化涂层,研究了1000 W、1500 W、2000 W和3000 W不同溅射功率对MoS_2涂层微观结构、组织形貌以及电化学起始过电位的影响。结果表明:溅射功率的改变会影响溅射离子能量从而影响MoS_2涂层的结构形貌、相结构及电化学性能。不同溅射功率下MoS_2涂层都呈现为蠕虫状生长且出现1T相成分,随着功率的升高表面形貌呈现沿(100)晶面择优取向,在1500 W时(100)衍射峰最强,涂层蠕虫状结构出现了很多细小的分支,涂层边缘暴露接触点位最多。通过电化学性能测试结果显示随着溅射功率的增大,MoS_2涂层的电化学起始过电位先减小后增大,在1500 W溅射功率下过电位最小,在10 mA/cm~2电流密度下其起始过电位值为148.5 mV。

关键词:溅射功率;二硫化钼涂层;结构形貌;电催化性能

基金资助:西物创新行动项目(202301XWCX003); 乐山市科技局项目(23GZD014)