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作者：王祥 ;魏新帝 ;朱桢 ;庞静希 ;闫成亮 ;薛慧 ;
单位：无锡普天铁心股份有限公司基础材料研究院;安庆新普电气设备有限公司;
摘要：使用激光刻痕工业设备，采用不同的激光刻痕工艺参数进行刻痕实验，分析了刻痕工艺参数对0.27 mm取向硅钢的表面质量和磁性能的影响，从而获得兼顾表面质量和磁性能的激光刻痕工艺。结果表明：激光刻痕会损伤取向硅钢表面绝缘涂层，随着激光功率增大，激光对绝缘涂层的损伤逐渐加深，当激光功率为4.5 kW时，刻槽的平均深度超过了绝缘涂层的总厚度，使取向硅钢基板暴露；随着刻痕间距增大，激光刻痕产生的铁损降比先增大后减小，刻痕间距过大和过小都不能获得最好的降铁损效果；激光刻痕后，取向硅钢磁感总体降低，并且激光功率越大，磁感损失越多，激光功率在3.5～4.3 kW时所导致的磁感损失均可以控制在0.01 T以内。在所研究的工艺范围内，最优的激光刻痕工艺参数为激光功率4.3 kW、刻痕间距5 mm,该刻痕工艺可将取向硅钢铁损降低13.43%,同时，不明显损坏表面绝缘涂层。
关键词：激光刻痕;;取向硅钢;;磁畴细化;;磁性能;;绝缘涂层
